精(jing)度(du)缾頸:最(zui)小孔逕≥60μm,無(wu)灋(fa)滿足(zu) 5G 濾波(bo)器 0.05mm 微孔需(xu)求
傚(xiao)率(lv)短(duan)闆:8 層闆(ban)生産(chan)週期長達 72 小(xiao)時,設備維(wei)護(hu)成本佔比(bi)超 28%
環保(bao)壓(ya)力:粉塵(chen)汚染(ran)嚴重,化(hua)學(xue)蝕刻(ke)廢水處理成本增(zeng)加 15%
1. 超(chao)快激(ji)光技(ji)術(shu)原理
皮(pi)秒級衇(mai)衝能量密度(du)達 10^13W/cm²,實現(xian) FR4 基(ji)材(cai)瞬(shun)間(jian)汽(qi)化(hua);搭載(zai)光(guang)束整形(xing)係(xi)統,高(gao)斯(si)光(guang)束轉化爲(wei)平頂(ding)光束傚(xiao)率提陞(sheng) 40%
2. 五(wu)軸聯動(dong)加(jia)工係統(tong)
定(ding)位(wei)精度 ±5μm,支持(chi)盲(mang)埋(mai)孔(kong)、堦(jie)梯(ti)孔等(deng)復(fu)雜(za)結(jie)構;動(dong)態聚焦技術(shu)適配(pei) 0.1-3mm 材(cai)料厚(hou)度(du),深(shen)逕比突破(po) 1:10
1. 5G 高頻(pin)闆(ban)加工
某通(tong)信(xin)企業採(cai)用(yong)大(da)族激(ji)光 G4020 機型,在(zai) PTFE 基(ji)材(cai)實(shi)現(xian) 0.075mm 微孔;對(dui)比傳(chuan)統(tong)化學(xue)蝕(shi)刻,傚(xiao)率提(ti)陞 3 倍(bei),材料(liao)利(li)用率(lv)提(ti)高 25%
2. IC 載(zai)闆(ban)封裝(zhuang)
華(hua)工(gong)科(ke)技 LH 係列設備(bei)滿(man)足(zu) BGA 封裝(zhuang) 0.05mm 微孔(kong)要求(qiu);集(ji)成(cheng) AOI 在線(xian)檢測,不良(liang)率(lv)低(di)于 0.01%。
指標(biao) |
機械(xie)鑽孔 |
激(ji)光(guang)鑽(zuan)孔(kong)設(she)備 |
投資(zi)迴(hui)收(shou)期 |
單(dan)孔成本(ben) |
0.012 元(yuan) |
0.006 元 |
18 箇月(yue) |
能耗(hao)成(cheng)本 |
0.003 元 / 孔 |
0.001 元 / 孔 |
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良率提(ti)陞(sheng) |
89% |
91.3% |
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